光刻机由光源系统、光学系统、掩模与晶圆运动系统、对准测量系统、控制软件系统以及环境与保障系统等多个核心子系统组成，各模块协同实现纳米级图形转移。光源决定分辨率，光学系统决定成像质量，运动与对准系统决定叠加精度，而环境与控制系统保障稳定运行。随着高数值孔径技术发展，光刻机系统结构将更加复杂，集成化与自动化程度持续提升。